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综合《工商时报》《经济日报》等台媒报道,此次事件涉案人数高达9人 ,横跨台积电研发与生产线部门。其中一名台积电跳槽至日本东京威力科创的工程师联合2名台积电在职工程师,疑似利用远端连线进入研发内网,使用个人手机或电子装置拍摄上千张照片 ,窃取技术机密。
据悉,东京威力科创为台积电重要的设备供应商之一 。截至目前,该公司未就此事做任何评论。其母公司TOKYOELECTRON股价受到冲击 ,一度下跌逾4%。
台积电5日回应称,近期在常规的监控情况下侦测到违规行为,经内部调查发现涉及营业秘密泄露情况 。由于公司建立全面及完备的监控机制 ,得以及早发现,已对涉事违规人员进行严厉惩处,并已采取相关法律行动 ,此案现已进入司法程序。
岛内半导体业者指出,2纳米制程开发难度 、投入成本极高,是现阶段全球最先进的晶片制造工艺,一旦外泄 ,或将改变全球晶片制程竞争格局。目前全球仅有台积电、三星、英特尔与日本Rapidus等少数企业仍持续研发,台积电预计最快将于2025年底前量产2纳米晶片 。
专家分析,先进制程采取高度分工与模组化设计 ,单一站点资料难以复制整体制程,但若涉案者具备研发背景,并掌握2纳米良率调校的关键参数与制程条件 ,就可能大幅缩短竞争对手的追赶时程,尤其对韩国三星 、日本Rapidus等正积极发展2纳米的厂商而言,将成为重大突破口。
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